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根据一些行业的特殊要求, IKN 在CM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款CMS2000超高速胶体磨，转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒径分布更小。
CMS2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
IKN纳米高剪切胶体磨和国内设备对比
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三级结构 |
磨头结构 |
转速 |
线速度 |
模块头 |
密封类型 |
产品效果 |
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国内设备 |
沟槽是直线，同级的沟槽深度一样 |
沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下 |
目前是不通过变频器来调节，若通过变频调节，他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM（这是由于胶体磨的内部结构及精密的程度决定的。） |
大约在10-15M/S |
只有一种模块头 |
单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁 |
粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差 |
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IKN 上海依肯 |
沟槽是曲线，上下深度不一，上深下浅 |
斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大 |
可以通过变频调速，转速可达7890/13789RPM ，通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是他们的3-4倍，这样研磨的细度更小) |
23-40 M/S |
可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块 |
双机械密封，易于清洗，将泄漏降至，可24小时不停运转 |
可实现1-10微米小粒径材料加工 |
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